AI 摘要
- 上海微電子於進博會展出 SSC800 與 SSB800 光刻機透明模型，展品為模型而非運作中的設備。
- 廠方稱關鍵零件國產化率超過 90%，相關產線累計處理逾 1,000 萬片晶圓，設備有效運行率超過 92%。
- 上述數據為公司自行披露，尚未見公開的完整獨立測試結果，且 SSC800 與 SSB800 不能直接與 ASML 高階 EUV 設備比較。
上海微電子 SSC800 是本次第九屆中國國際進口博覽會的展示焦點之一。上海微電子裝備集團（SMEE）於 11 月 5 日至 10 日展出 SSC800 與 SSB800 兩款前道乾式掃描投影光刻機的透明模型，展示內部光路與機電結構。需要說明的是，展場展示的是模型，並非實際運作中的設備。
產品定位與目標用途
SSC800 與 SSB800 分別採用 KrF 與 I-line 曝光技術，屬前道乾式光刻設備，主要服務成熟製程晶片生產。兩款機型的適用製程與主要用途不同，具體差異整理如下：
| 型號 | 曝光技術 | 適用製程 | 主要用途 |
|---|---|---|---|
| SSC800 | KrF（248nm） | 110nm 或以上 | 記憶體、微處理器、Micro LED |
| SSB800 | I-line（365nm） | 280nm 或以上 | 功率半導體、模擬晶片、MEMS |
技術架構與國產化進展
據上海微電子介紹，設備採用自行研發的高精度投影物鏡與照明系統、高速雙工件台、光罩台、自動物料傳輸系統，以及高精度對準與調平感應器。廠方表示，相關核心技術已實現自主研發，關鍵零件國產化率超過 90%。
此百分比針對的是「關鍵零件」，不代表整機每一項零件都有相同比例的國產來源。
量產規模與運行數據
上海微電子表示，SSC800 及 SSB800 系列已完成產品定型並進入規模化量產階段，多台設備已在中國大型邏輯晶片與記憶體晶片生產線長期運作。公司披露，相關產線累計處理晶圓超過 1,000 萬片，設備有效運行率超過 92%。
上述產量、運行率及效能數據均由公司自行披露，目前未見公開的完整獨立測試結果，不宜視為第三方認證。
與國際領先產品的差距
上海微電子聲稱，旗下前道乾式光刻機的曝光成像表現已接近國際同類領先產品，但套刻精度與生產效率仍在追趕國際標準。
另一方面，成熟製程晶片仍廣泛用於工業控制、汽車電子與電源管理，但相關光刻設備與最先進晶片所用技術並不相同。SSC800 與 SSB800 不能直接與 ASML 高階 EUV 光刻機比較，也不能據此推斷中國已取得最先進製程的光刻技術。
ASML 缺席進博會的背景
ASML 今年未參加上海進博會。《觀察者網》報道指出，ASML 自 2020 年起連續六屆參展，本屆缺席的原因是展期與內部全球會議撞期。目前沒有證據顯示 ASML 缺席與上海微電子展出的光刻機模型有關，兩件事不應混為一談。
產業觀察
對中國半導體產業而言，國產設備能否在成熟製程產線長期穩定運作，以及零件供應能否持續，將直接影響晶片廠的設備採購選擇。上海微電子公布的國產化與運行數據值得關注，但設備穩定性與高階製程能力仍須分開評估。
Reference Link : unwire.hk
