SNIA推動E2 SSD新規格,單顆容量目標上看1PB

固態硬碟(SSD)容量長期以來主要依賴NAND快閃記憶體技術進步,包括儲存單元多級化與3D堆疊。不過,隨著既有SSD外形規格多年未有重大變化,業界開始尋找不依靠製程微縮、而是透過硬體設計提高容量的新路線。儲存網路產業協會(SNIA)目前正與多家廠商合作推動EDSFF E2規格,目標讓單一SSD容量達到1 PB。

SSD容量成長逐漸受到外形規格限制

提高SSD容量通常有兩種方式:第一是在電路板上配置更多NAND快閃記憶體封裝,第二是提高單一NAND晶粒的儲存密度。前者受到SSD外形尺寸與電路板空間限制,後者則取決於半導體製程、儲存單元技術與3D堆疊能力。

過去約10年,U.2與M.2等企業及資料中心常見規格並未出現重大尺寸變化。U.2於2011年問世,M.2則於2013年推出;新一代EDSFF規格中的E1與E3系列,也已推出約8年。由於SSD外形尺寸與NAND封裝尺寸相對固定,既有規格可容納的快閃記憶體顆粒數量受到限制,因此容量成長主要依賴NAND位元密度提升。

在多級儲存單元與3D堆疊技術推動下,過去10年NAND快閃記憶體的位元密度已提高近10倍。以U.2為例,單一SSD最大容量已從10年前的15.36TB提升至目前的122.88TB,增幅超過8倍。

E2以增加顆粒數量突破容量上限

依據E2主要推動者美光(Micron)的說法,E2的開發目標是在NAND技術發展週期之外,將SSD容量提高一倍,藉此降低單位容量成本。這項構想不必等待單一NAND晶粒容量提升,而是透過SSD本身的外形與電路板設計,容納更多快閃記憶體顆粒。

在NAND技術不變的前提下,美光提出三種將SSD容量提高一倍的路線:

  1. 增加既有封裝內的晶粒數量:沿用E3.S、E3.L或E1.L等既有EDSFF外形,將每個NAND封裝內的晶粒數量提高一倍。此方式可維持既有SSD外形,但製造成本較高,熱管理也更具挑戰。
  2. 採用面積更大的新外形:透過更大的單層電路板,將快閃記憶體顆粒數量上限從E1與E3目前約32或48個,提高至64個以上。這種方式製造成本相對較低,也有利於散熱,但必須制定新規格並配合新的機箱設計。
  3. 增加SSD厚度:採取類似E3.L 2T的設計,將厚度增加一倍,利用多層電路板容納64個快閃記憶體顆粒。其缺點是多層電路板與內部布線會推高成本,散熱更加困難,也會占用更多機箱寬度,降低單一機箱可安裝的SSD數量。

美光認為,第二種路線的成本最低。透過在較大的單一電路板上配置更多記憶體顆粒,可以避免複雜化NAND封裝與電路板設計,並相對容易進行散熱。然而,這也意味著資料中心必須導入新的機箱與周邊環境,且EDSFF規格將進一步增加複雜度。

E2規格初步特性

E2的基本需求是配置64個快閃記憶體顆粒,支援NVMe與PCIe介面,其中PCIe介面定位為PCIe 6.0以上,並盡可能沿用既有EDSFF E1與E3的設計特性。E2名稱一方面與2U尺寸概念相關,另一方面也代表其尺寸與設計結合E3及E1系列的特徵。

項目E2初步規格對應或比較
寬度76mm與E3相同
厚度9.5mm與較薄的E1.S相同
長度200mm介於E3的112.75至142.2mm與E1.L的318mm之間
記憶體顆粒數量64個以上高於一般U.2或E3的約16至32個
介面NVMe、PCIe 6.0以上沿用EDSFF相關連接與電氣規格
連接與電氣規格SFF-TA-1002、SFF-TA-1009沿用既有EDSFF規範

從外觀來看,E2可視為大幅拉長的E3,或接近拉長版的U.2。更大的尺寸可讓單層電路板配置64個以上的NAND封裝,這是其提升容量的主要方式。

單顆1PB與單機櫃40PB的容量目標

E2的規格發展目標,是在相對簡單的單一電路板設計下,提供最高1PB容量,並支援PCIe 6.0以上的NVMe介面。不過,其預期功耗最高達80瓦,明顯高於目前E3.L最高40瓦及U.3最高25瓦的水準,因此需要搭配專門設計的機箱與冷卻系統。

在專用2U高密度機箱中,預期可安裝40組E2 SSD,理論上可提供最高40PB儲存容量。這顯示E2的主要價值在於儲存密度與容量,而非追求最高效能。

目前E2較適合定位為溫儲存(Warm Storage),介於高效能熱儲存SSD與低速、大容量冷儲存設備,例如硬碟之間。它的訴求是以相對適中的效能,提供超大容量SSD儲存空間。

NAND容量提升使1PB目標逐步接近

目前業界已有高容量NAND顆粒可支撐E2的發展方向。鎧俠(Kioxia)推出的BiCS8 218層QLC記憶體顆粒容量達8TB,若配置64個,理論上可提供約512TB,接近文中所稱的500TB級別。未來若採用容量更高、基於300層以上3D堆疊技術的新一代NAND顆粒,單一E2 SSD達到1PB的條件將更為成熟。

不過,這些容量推算仍取決於實際採用的NAND顆粒、控制器、錯誤修正、預留空間與產品設計,不能直接等同於每一款E2產品的可用容量。

規格制定與原型產品進展

在美光、Meta、微軟、Pure Storage、三星及SanDisk等業者支持下,SNIA正推動SFF-TA-1042規範,並以此制定EDSFF E2 SSD規格。E2最初的0.01版草案於今年3月發布,0.02版草案於5月釋出,預定在今年夏季完成規格制定。

OCP組織也正發展搭配E2 SSD的伺服器機箱與冷卻機構。目前美光與Pure Storage已展示E2 SSD原型,美光原型容量據稱超過500TB,Pure Storage則展示300TB版本。

Pure Storage在今年5月的OCP技術專家對談中,說明其E2控制器與記憶體顆粒配置研究,確認在E2外形中配置64個NAND快閃記憶體顆粒及控制器等元件具備可行性,並公開300TB E2原型照片。

Pure Storage也早在兩年前預告,計畫於2026年推出300TB的DFM(DirectFlash Module)儲存模組,並於今年6月再次宣布300TB DFM即將推出。DFM是該公司用於FlashArray與FlashBlade等儲存設備的專屬規格,雖然不等同於E2,但兩者都採用2U高度、較一般SSD更長的快閃儲存模組外形。因此,Pure Storage的E2原型可能參考了其高容量DFM模組的相關經驗與技術;這屬於基於外形與產品脈絡的推測,並非已確認的產品細節。

導入E2仍面臨功耗、散熱與基礎設施挑戰

E2透過增加NAND顆粒數量提高容量,能降低對單一顆粒製程進步的依賴,也可能改善單位容量成本。然而,80瓦級功耗代表資料中心必須重新評估供電、散熱與機櫃配置。新外形也需要伺服器機箱、背板、連接介面及冷卻系統配合,短期內不會像既有U.2或E3 SSD一樣直接置換。

目前E2仍處於規格制定與原型展示階段,正式規格、實際產品容量、效能、功耗及部署成本仍可能調整。微軟目前已發布搭配E2 SSD的2U機箱CAD圖樣,但其他具體機箱產品資訊仍有限。隨著SNIA完成規格,以及OCP與各家儲存業者持續推進,E2能否成為資料中心高容量溫儲存的通用方案,仍有待後續產品化與實際部署驗證。

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