三星正投入結合量子電腦與人工智慧的微影（photolithography）模擬技術，目標是縮短微影與蝕刻流程所需的時間與成本，同時提升晶片密度及製造良率。相關消息由韓國媒體《首爾經濟日報》（Seoul Economic Daily）報導。
這項技術的核心構想，是先利用量子電腦執行微影流程模擬，再由人工智慧偵測模擬結果與實際製程之間的差異，並進行修正，以加快製程參數的最佳化。
微影是先進製程的關鍵環節
在半導體製造中，微影是將電路設計圖案轉印至晶圓的重要步驟，通常需要仰賴荷蘭 ASML 等設備商提供的高階曝光機，透過紫外光完成圖案曝光。隨著先進製程持續縮小，製程對圖案精度與穩定性的要求也同步提高。
微影結果會直接影響後續蝕刻及其他製程，因此往往是決定晶片密度、缺陷率與最終良率的重要因素。三星希望透過量子模擬與 AI 分析，改善模擬與實際生產條件之間的落差，進一步提升製程開發效率。
三星 SDS 主導開發，預計 2027 年驗證
據報導，這項技術由負責數位業務的三星 SDS 主導。三星 SDS 已取得相關演算法，並計劃在 2027 年進行概念驗證（proof of concept），以確認量子電腦搭配 AI 的微影模擬方法是否具備實際可行性。
若模擬軟體通過驗證，三星 SDS 預期將與三星電子相關單位分享應用成果。不過，目前公開資訊尚未顯示該技術已導入量產線，也未提供具體的效能提升幅度、適用製程節點或所使用的量子電腦平台。
AI 已逐步進入晶圓製程開發
AI 應用於半導體製程開發並非全新方向。業界已有晶圓代工廠在部分製程節點導入 NVIDIA 等 AI 工具，協助分析製程資料與加速開發工作。
三星若能進一步將量子電腦用於微影模擬，再透過 AI 修正模型與實際製程的差異，理論上可能縮短製程開發週期、降低試驗成本，並協助改善良率。然而，實際成效仍取決於量子運算能力、模擬模型準確度、製程資料品質，以及系統能否與現有半導體製造流程整合。
量子運算能否轉化為製造優勢仍待觀察
量子電腦目前仍處於持續發展階段，能否在複雜的微影模擬工作中提供足夠的實用效益，仍須透過概念驗證與後續製程測試確認。三星此次布局顯示，半導體業者正嘗試以量子運算與 AI 處理先進製程中高度複雜的模擬與最佳化問題。
在三星與台積電競逐先進製程的背景下，若相關技術最終能在實際製造環境中穩定運作，可能成為縮短開發時間與提升製造效率的工具；但在 2027 年概念驗證完成前，現階段仍應視為研發中的技術方案，而非已獲證實的量產突破。
