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俄羅斯在 3 月 31 日宣布，向莫斯科電子技術學院 (MIET) 撥款 67 億盧布、約 6100 萬港幣，研發全新的 X 射線光刻機，技術比 ASML 公司的 EUV 光刻機更為先進，有望打破西方國家技術制裁，並終止 ASML 公司的壟斷地位。 有別於傳統的 EVU 極紫外線光刻機，X 射線光刻機採用同步加速度配合等離子體源的無遮罩光刻技術，由於 X 射線的波長介乎...